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半導體(ti)清(qing)(qing)洗作為芯片生產(chan)中最基本(ben)的環節(jie)貫穿(chuan)硅(gui)片制造(zao)、晶圓(yuan)制造(zao)、包裝。隨著技術節(jie)點的進步，清(qing)(qing)洗過程越來越精細，對(dui)清(qing)(qing)洗設備(bei)的需(xu)求也會(hui)相(xiang)應增加。

近(jin)年來，我(wo)國半導體清(qing)洗(xi)技術和設備不斷完善，盛美上海、純科(ke)技、北方華創等(deng)企業成果堪比國際(ji)領先企業。

聚焦濕法清洗設備

公開資(zi)料顯示(shi)，根據清洗(xi)(xi)介質的不同，半導體清洗(xi)(xi)技術分為濕法清洗(xi)(xi)和干法清洗(xi)(xi)兩種工藝路線(xian)，其中濕法清洗(xi)(xi)是主流技術路線(xian)。

所謂濕法清洗，是指通過(guo)腐蝕、溶解、化學反(fan)應等方法，利用溶液(ye)、酸堿、表(biao)面(mian)活性劑(ji)、水及其混合物，使硅片表(biao)面(mian)的(de)雜質(zhi)與溶劑(ji)發生(sheng)化學反(fan)應，產生(sheng)可溶性物質(zhi)、氣(qi)體或直接脫落，從而達(da)到清洗硅片的(de)目的(de)。

濕法清洗可分為化學方法和物理方法。

化學方法主要是將硅片浸入不同的(de)化學藥(yao)劑中以達(da)到(dao)清(qing)洗(xi)的(de)目的(de)。根(gen)據藥(yao)劑的(de)不同又有RCA清(qing)洗(xi)、改進(jin)RCA清(qing)洗(xi)、臭(chou)氧清(qing)洗(xi)、IMEC清(qing)潔等多個分支。

物(wu)理方法(fa)則是將化學藥(yao)(yao)劑與物(wu)理方法(fa)結合，通過機械刷洗、超聲波(bo)/兆聲波(bo)清洗法(fa)、二流體清洗法(fa)、旋轉噴淋法(fa)等物(wu)理技術，對硅片進(jin)行全面清洗的過程。由于各大企業使用的藥(yao)(yao)液基(ji)本相同，輔助物(wu)理方法(fa)成為不同工藝的主要差(cha)別(bie)。

國內企業差異化競爭趨勢明顯

目(mu)(mu)前，全(quan)球清(qing)洗設備(bei)市(shi)場(chang)主(zhu)要是(shi)迪恩(en)士SCREEN、東京電子TEL、泛林LAM與細美(mei)事(shi)SEMES四(si)家(jia)公司總市(shi)場(chang)份(fen)額(e)(e)達到90%以(yi)上，其中迪恩(en)士市(shi)場(chang)份(fen)額(e)(e)超過50%。在清(qing)洗方法(fa)(fa)上，國際巨頭主(zhu)要采用容(rong)器浸泡(pao)法(fa)(fa)、旋轉(zhuan)(zhuan)噴(pen)淋(lin)法(fa)(fa)和機(ji)械刷洗法(fa)(fa)，其中旋轉(zhuan)(zhuan)噴(pen)淋(lin)法(fa)(fa)是(shi)主(zhu)流(liu)路線，目(mu)(mu)前已(yi)完成7項nm以(yi)上硅(gui)片清(qing)洗規(gui)格。但國內情(qing)況(kuang)差異較大，各大清(qing)洗設備(bei)企業路線不(bu)同，各有突破。

1/盛美上海清洗設(she)備底蘊深厚

在清(qing)洗設(she)(she)備(bei)(bei)方面，盛美上(shang)海有(you)著深厚的底(di)蘊。根據(ju)公司財務報告數據(ju)，半導體(ti)清(qing)洗設(she)(she)備(bei)(bei)收入是主(zhu)要收入來源。公司清(qing)洗設(she)(she)備(bei)(bei)主(zhu)要包括單(dan)片清(qing)洗設(she)(she)備(bei)(bei)、自(zi)動槽(cao)清(qing)洗設(she)(she)備(bei)(bei)、單(dan)片槽(cao)組合清(qing)洗設(she)(she)備(bei)(bei)。TEBO兆聲波清(qing)洗設(she)(she)備(bei)(bei)。

公司成功研發出(chu)全球首(shou)創公司SAPS、TEBO兆聲波清(qing)洗(xi)技(ji)術及Tahoe單片槽(cao)式組合清(qing)洗(xi)技(ji)術，可(ke)(ke)應用于45nm以下技(ji)術節點的(de)(de)晶圓清(qing)洗(xi)領域可(ke)(ke)可(ke)(ke)有效解決腐蝕后有機(ji)污(wu)染(ran)和顆粒清(qing)洗(xi)難題，并大幅(fu)減少濃硫酸(suan)等化學試劑(ji)的(de)(de)使用量。

此外，業(ye)界還對(dui)盛美上海(hai)今(jin)年7月中旬推出的新型化(hua)學機(ji)械進行(xing)了研磨(Post-CMP)更注重(zhong)清洗設備(bei)。該清洗設備(bei)的6英(ying)(ying)寸(cun)(cun)和8英(ying)(ying)寸(cun)(cun)配置(zhi)適用于(yu)碳(tan)化(hua)硅(SiC)襯(chen)底(di)制造;硅晶圓制造適用于(yu)8英(ying)(ying)寸(cun)(cun)和12英(ying)(ying)寸(cun)(cun)的配置(zhi)。

近(jin)日，盛美上海宣(xuan)布投資建設(she)高端半導體(ti)設(she)備拓展(zhan)(zhan)研發項目(mu)。據披露(lu)，該(gai)項目(mu)擬(ni)開發的產(chan)品包括干(gan)法設(she)備拓展(zhan)(zhan)產(chan)品和超臨界產(chan)品CO2清洗干(gan)燥設(she)備，總投資7.48億元(yuan)，其中研發費用2.6億元(yuan)。

2/至純科技對(dui)標國際巨(ju)頭

至純(chun)技(ji)術擅長單片清洗(xi)設(she)備和槽(cao)式清洗(xi)設(she)備，該公司(si)單片式濕法設(she)備為旋(xuan)轉噴淋Spin-Spray類型，其對(dui)標迪恩士(shi)SCREEN、泛(fan)林LAM等企業。業界(jie)消(xiao)息顯示，至純(chun)科技(ji)能(neng)提供全(quan)部28nm節點濕法設(she)備，有望成為高端(duan)濕法設(she)備的領導者。

 據(ju)至純(chun)科技財報(bao)數據(ju)顯示，2021年，該(gai)公司(si)濕(shi)法設(she)備在(zai)幾條成熟生(sheng)產線(xian)上(shang)獲(huo)得(de)了(le)整條線(xian)的設(she)備訂單(dan)，有(you)效取代了(le)以前(qian)的制(zhi)造商;公司(si)還在(zai)氮化(hua)鎵和(he)碳化(hua)硅(gui)生(sheng)產線(xian)上(shang)獲(huo)得(de)了(le)整條線(xian)的濕(shi)法設(she)備訂單(dan);公司(si)還在(zai)先進(jin)工(gong)藝的28納(na)米節點獲(huo)得(de)了(le)所有(you)工(gong)藝的設(she)備訂單(dan);在(zai)14納(na)米以下制(zhi)程也拿到了(le)4臺濕(shi)法設(she)備訂單(dan)。

2021 年公司(si)的單片(pian)濕法(fa)(fa)設(she)(she)備(bei)和槽式濕法(fa)(fa)設(she)(she)備(bei)全年出機超過了97臺。同(tong)時(shi)12英寸濕法(fa)(fa)設(she)(she)備(bei)新訂單超過6億(yi)元，其中單片(pian)濕法(fa)(fa)設(she)(she)備(bei)新訂單超過3.8億(yi)元。2021年，公司(si)子公司(si)至微科技(ji)成功引進多(duo)家戰略投資者，助力業務加(jia)快(kuai)發展。

此(ci)外，今(jin)(jin)年(nian)(nian)一季報至(zhi)純(chun)科(ke)技(ji)公司主營收入5.48億元(yuan)(yuan)，同比(bi)增長(chang)136.98%。恰逢半導體設備發展的(de)黃金時期，近兩(liang)年(nian)(nian)純(chun)科(ke)技(ji)合(he)同負(fu)債和(he)存貨持續增長(chang)，2021年(nian)(nian)至(zhi)純(chun)科(ke)技(ji)合(he)同負(fu)債和(he)存貨分別為2.40億元(yuan)(yuan)和(he)11.95億元(yuan)(yuan)，創歷史新高，也代表著(zhu)公司在(zai)手訂單規模不斷擴大，今(jin)(jin)年(nian)(nian)公司新訂單目(mu)標(biao)超過40億元(yuan)(yuan)。

3/北(bei)方華創重視設備全鏈條發展

北華創作(zuo)為國(guo)內半導體設備(bei)龍頭企業，公(gong)司產品線相對齊全。經(jing)過多年的(de)深入研發該公(gong)司完成(cheng)了刻蝕機(ji)、磁(ci)控濺射、氧(yang)化(hua)爐、低(di)壓化(hua)學氣相沉積、清洗機(ji)、原子層沉積等(deng)集成(cheng)電路設備(bei)90/55/40/28納米工藝驗證，部(bu)分設備(bei)已突破先進(jin)制(zhi)程，實現(xian)產業化(hua)。

在清(qing)洗設(she)備(bei)上(shang)發(fa)展喪，北(bei)方華創與2018年收購了(le)美國(guo)半導體(ti)清(qing)洗設(she)備(bei)公司Akrion，完善了(le)清(qing)洗設(she)備(bei)產線。目前該公司可提供各種(zhong)單片清(qing)洗設(she)備(bei)和全自(zi)動槽清(qing)洗設(she)備(bei)，可適用于技術節點為65nm、28nm工藝的芯片制造(zao)。

通過對(dui)比上述三家企(qi)業(ye)可明(ming)顯得知，北方華(hua)創(chuang)重視企(qi)業(ye)產品(pin)的全(quan)鏈(lian)條發展，盛美上海則在清洗設備(bei)設備(bei)環節愈(yu)加(jia)精細化，并逐(zhu)步開拓(tuo)其他鏈(lian)條。至純科技則高度對(dui)標國際企(qi)業(ye)，聚焦高端產品(pin)，各家公司差(cha)異(yi)化競爭趨勢(shi)明(ming)顯。